量子计算机技术壁垒,量子计算机技术壁垒是什么

摘要： 大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于量子计算机技术壁垒的问题，于是小编就整理了1个相关介绍量子计算机技术壁垒的解答，让我们一起看看吧。“神兽”光刻机之战，大胆猜测哪...

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于量子计算机技术壁垒的问题，于是小编就整理了1个相关介绍量子计算机技术壁垒的解答，让我们一起看看吧。

1. “神兽”光刻机之战，大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围？

“神兽”光刻机之战，大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围？

    光刻机集人类智慧于大成，一台顶级光刻机的关键零部件来自不同的西方国家，德国的镜头、美国的光栅、瑞典的轴承、法国的阀件等等，最麻烦的这些顶级的零件对我国是禁运的。可以说我国的光刻机与荷兰ASML光刻机的差距，客观上反映了我国与西方在精密制造领域的差距。

    我国的光刻机起步较晚，同时还遭遇了西方国家的技术封锁，所以目前制造出来的光刻机主要集中于65nm及其以下的工艺。

    目前，我国生产光刻机的企业是上海微电子，成立于2002年，可以量产制程工艺为65nm的光刻机，距离ASML的7nm EUV光刻机还有很远的距离，而且光刻机技术无法实现跳跃。

    上海微电子也是一家系统集成商，自己并不生产关键零部件，做不出高端光刻机也不是它的责任。现在也只能做好中低端光刻机，慢慢培养国内的零部件商，一点一点往上做。

    目前，光刻机的老大是荷兰的ASML，垄断了高达80%的市场份额，最先进的EUV光刻机全球也只有ASML能够生产。

    AMSL光刻机90%的零部件向外***购，整个设备的不同部位同时获得了世界商最先进的技术，德国的光学设备、美国的计量设备和光源，ASML要做的是精密控制。7nm EUV光刻机有13个系统，3万个分件，每个动作都要精细，将误差分散到这13个系统中。

如果按照光刻机的发展，我可以负责任的告诉你，永远没有可能！

因为光刻机是集欧美最新最顶级技术大成的产品，我们国家不可能在所有领域都超越别人，只要有一个短板就无法完成！

但是现在科技日新月异，难保不会出现新的纳米技术让我们弯道超车！

就如同现在的5G，已经和以前的通信技术完全不同。

所以我国如果在光刻机上超越了现在的ASML那一定是另辟蹊径，在芯片加工上走出了一条新路。

现在科学技术日新月异，谁也不能预测万物之灵的人类会发展到哪一步，万事皆有可能！

我相信我们国家终会登顶世界之巅，带领智慧无边的人类征服宇宙！

很遗憾的告诉题主，没有一家中国公司可以解光刻机之围，并且未来很长一段时间将保持这种状态。我来简单说说我国当前光刻机的现状吧！

1、光刻机需要先进系统制造商

我国目前生产光刻机的系统制造商有几家，比如无锡影速、合肥芯硕、先腾光电、上海微电子，当前能生产最先进光刻机的系统制造商是上海微电子，量产机型能实现90nm制程工艺，其他厂商的技术还停留在200nm，乃至800nm~1500nm，是不是很吃惊？要知道荷兰ASML最先进EUV光刻机的工艺达到了7nm，而我们最好的还只是90nm。

我国光刻机在全球范围内来说，技术处于低端领域，中端市场目前被日系厂商尼康佳能所占据。在技术落后两三代的情况下基本没可能，要求上海微电子短期内实现跨越式成长，从低端赶上中端，然后再全力超过荷兰ASML几乎是不可能的。

因此，单从系统制造商这个层面来说，现在的上海微电子无法解决我国缺乏先进光刻机的困扰。

2、光刻机仅有系统制造商不行

光刻机是一个非常复杂的设备，单就上海微电子产的光刻机就有几万个配件，想要实现光刻机技术的飞跃，各个核心子系统的制造商不可或缺，没有他们生产出给力的核心部件，上海微电子就是巧妇难为无米之炊。

就拿光刻机两个核心子系统光源、双工件台来说，目前国内水平有突破，比如上海微电子光刻机使用的镜头和光源由长春光机研发，之前该机构研发的“极紫外光刻关键技术研究”获得验收，可以实现32nm线宽的EUV光刻。而由清华大学领衔的工件台研发也取得了不错的成绩，目前我国能制造出双工件台，是ASML之后唯一的一家，这机器现在可以应用于65nm及以下节点是光刻机。

你看，如果说没有长春光机和清华的研发，上海微电子光刻机的核心子系统就没法得到提升，其制造出的光刻机也就没法拥有更好的制程。但以上只是光刻机中的两个子系统，还有更多的子系统和配件，如果说其他配件或者子系统供应商技术上不去，那我国光刻机的整体水平依旧上不去。

事实上荷兰ASML的光刻机能做成，很重要一条因素就是能在全球拿到最好的配件，源自美国的光源，德国蔡司提供的最好镜头，光学器件***购自日本厂商，法国瑞段的阀件轴承等等。

感谢您的阅读！

中芯国际的N＋1技术的出现，让我们对于7nm光刻机似乎就不再担心了。因为有消息称，N+1 技术已经可以接近7nm工艺了，甚至可以取代7nm工艺了。这种说法确实有点夸大，虽然我们也知道，它的性能提升 20% 的同时降低 57% 的功耗、并将逻辑面积减少了 63%。

让我很遗憾的告诉你，虽然它确实提升了性能。可是，它和真正的7nm工艺还是有一段不小的距离，

其实，中芯国际已经非常杰熟练的掌握了14nmFinFET 制程工艺的量产，而中芯国际最新研发出了N+1和N+2工艺，也在不断的缩小我们在技术方面，和国际社会的差异。可是，光刻机领域，我们还是和ASML有一定的差异性。

1. 来自于外国技术的封锁，特别是ASML，它的技术一直是藏着掖着的，即使中芯国际已经获得了它的7nm 光刻机，但并非是最先进的技术。
2. 来自于瓦纳森协议，这项协议确实禁止我们在一些技术上面使用外国技术，特别是特别是光刻机方面的技术，我们确实处于被协议制约。
3. ASML的模式我们学不来，一方面它将所有的主要设备厂商作为它的股东，比如说台积电，三星等等；另外一方面它将世界上所有的最先进技术引入到光刻机中。这种模式，我们很难学习。

确实我们寄希望于上海微电子，但是它的技术目前是90nm光刻机——

可是我们也不需要妄自菲薄。我觉得像中科院等一些国内研究光刻机的机构，他们一定会通过其他的途径，解决光刻机的问题，绕过技术方面的壁垒，带来全新的技术升级。

到此，以上就是小编对于量子计算机技术壁垒的问题就介绍到这了，希望介绍关于量子计算机技术壁垒的1点解答对大家有用。